silicon photo-electrochemical etching
基本解釋
- [電子、通信與自動控制技術(shù)]矽光電化學(xué)刻蝕
英漢例句
- Photo-assisted electrochemical etching (PAECE) is a newly developed technology for deep wet etching of silicon.
光輔助電化學(xué)刻蝕(PAECE)是一種高深寬比的矽刻蝕技術(shù)。
雙語例句
專業(yè)釋義
- 矽光電化學(xué)刻蝕